Definition of Apcvd

Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high-purity, high-performance solid materials. The process is often used in the semiconductor industry to produce thin films. In a typical CVD process, the wafer (substrate) is exposed to one or more volatile s, which react and/or decompose on the substrate surface to produce the desired deposit. Frequently, volatile byproducts are also produced, which are removed by gas flow through the reaction chamber.

Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux.

Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition) versteht man ein Beschichtungsverfahren.

Chemical vapour deposition identifica una tecnica di deposizione che prevede reagenti in fase gassosa che reagiscono alla superficie del substrato a formare un deposito solido. La tecnica permette di crescere sia strati uniformi che depositi "a isole", o una via di mezzo, a seconda dei parametri di deposizione (natura dei precursori, del substrato, temperatura di reazione, ecc...).

Chemical Vapor Deposition (CVD) (letterlijk vertaald “chemische dampdepositie”) is een chemisch opdampproces waarbij een dunne laag materiaal op een substraat (ondergrond) wordt aangebracht.